重庆铠天电子材料公司 重庆铠天 重庆铠天电子---光刻是半导体制程的核心，制程时间占比为40%-60%。而光刻胶作为光刻工艺中图形转移的载体，几乎决定了晶圆厂所能达到的制程高度，是半导体制程中的不可或缺的关键材料，也是国产替代的重要环节。光刻胶又称为光致抗蚀...

重庆铠天电子材料公司 重庆铠天 重庆铠天电子---一、分辨率：纳米级雕刻的精度标尺如果把芯片制造比作在头发丝上雕刻宫殿，分辨率就是衡量雕刻刀有多细的标尺。它决定了光刻胶能清晰呈现的最小线宽，直接影响芯片的集成度。例如，7nm工艺需要光刻胶在曝光后能精准区...

重庆铠天电子材料公司 重庆铠天 重庆铠天电子---光刻胶质量指标光刻胶的质量一定程度上决定了晶圆图形加工的精度、效率和稳定性。光刻胶质量指标包括痕量杂质离子含量、颗粒数、含水量、粘度等材料的理化性能。1、痕量杂质离子含量集成电路工艺对光刻胶的纯度要求是...

重庆铠天电子材料公司 重庆铠天 重庆铠天电子---光刻胶是由树脂、光致产酸剂、溶剂和添加剂等混合而成的，其中，作为生产树脂的原材料——光刻胶单体，究竟在光刻胶制作过程中到底起到什么样的作用？价值量多少？半导体级的光刻胶单体与一般的单体区别大不大？光刻...